配方l  釹鐵硼永磁材料的除油處理

工藝條件：pH值10．5，溫度65℃，時間至油除盡。

配方中采用檸檬酸與釹配位，有效地避免了釹被氧化。

配方2釹鐵硼永磁材料的出光處理

工藝條件：pH值4—5(用氨水調節)，溫度室溫，時間30—40s。   

該配方工藝兼有除銹、出光作用。經處理后，工作表面呈細致均勻帶光澤的金屬色澤。

配方3釹鐵硼永磁材料的浸鍍

工藝條件：溫度85℃，時間30s。

用浸鍍處理不僅可使磁體的穩定電極向正移動，從而降低釹的氧化能力，減小工件被氧化的程度，提高鍍層的結合力，而且浸鍍能獲得完整均勻的浸鍍層，對電鍍層結合力和耐蝕性的提高以及孔隙率的降低都有顯著作用。

配方4釹鐵硼永磁體材料的活化

工藝條件：溫度室溫，時間30—40s。

直接在釹鐵硼永磁材料上進行電鍍比較困難，不易得到質量良好的鍍層。為解決這一問題，可以采用上述活化處理，使工件表面處于活化狀態更易鍍覆，鍍覆后鍍層結合力及耐蝕性得到大幅度改善。

配方5釹鐵硼永磁材料鍍光亮鎳

工藝條件：pH值3．8—4．6，溫度45—55℃，電流密度2—4A／dm²，時間10min.

控制時間，使鍍層厚度5—6μm為佳，通電時，應先加兩倍電流lmin，然后降至正常值。

釹鐵硼永磁材料，是20世紀80年代發展起來的第三代功能材料，已在微波通訊、音像、儀器儀表、電機工程、計算機磁分離、磁療等領域得到廣泛應用。

沈陽工業學院化工分院，針對釹鐵硼合金存在的鍍層結合力及耐蝕性差等問題，設計了釹鐵硼永磁材料電鍍新工藝，探索了新的除油液配方，確定了釹鐵硼永磁材料電鍍鎳的較完整的前處理工藝，用此新工藝，鍍層的孔隙率為0．74個／cm²，鹽霧試驗達96h，結合力好，鍍層外觀細致、平整、光滑、光亮。

配方6燒結型釹鐵硼電鍍鎳工藝   

①除油

工藝條件：溫度80℃，時間l—3min。

    ②除銹

工藝條件：溫度室溫，時間30s。

    ③活化

工藝條件：溫度室溫，時間30s。   

④預鍍

工藝條件：pH值6．7，溫度50℃，時間15min。

    ⑤電鍍

工藝條件：溫度30℃，時間30min，電流密度1．6A／dm²。

電鍍工藝流程：高溫烘烤除油(200℃，lh)→封孔(浸硬脂酸鋅，l35℃，20～25min) →滾光→冷水洗→除油→熱水洗(60～70℃) →冷水洗→除銹→冷水洗→活化→冷水洗+預鍍→冷水洗→電鍍→水洗→烘干。

通過上述工藝，可使釹鐵硼永磁體得到光亮、孔隙率低、結合力高和耐蝕性強的鍍層。

配方7釹鐵硼永磁材料電鍍鎳磷鍍層

工藝條件：pH值1．2—2．0，溫度55～65℃，電流密度4—6A／dm²，時間按鎳磷鍍層厚度確定。

釹鐵硼永磁材料用本鍍液電鍍獲得的鎳磷非晶態鍍層導磁率高，矯頑力低，化學穩定性好，耐蝕性優異，是釹鐵硼永磁材料的一種理想保護鍍層。