<文摘>本發明涉及化學成分以及用于清洗ＣＭＰ設備（包括將稀漿輸
送到必要位置的輸送管的內部）的方法。本發明的化學成分還
用于利用水本身進行的后ＣＭＰ清洗。公開了３類清洗成分，
它們均是水溶液。第一類是最好在約１１至約１２的ｐＨ值范
圍內工作，并且最好含有一種或多種非離子表面活性劑、一種
或多種簡單胺、諸如一種或多種可溶二元醇有機化合物的表面
活性劑或粘合劑以及一種或多種季銨。第二類清洗成分最好在
約８．５ｐＨ范圍內工作，并且含有檸檬酸和草酸。第三類成
分是酸性的，ｐＨ值最好在約１．５至約３范圍內，最好含有
至少一種氧化酸，至少一種螯合劑、至少一種粘合劑以及至少
一種陰離子表面活性劑。在本發明的優選成分中基本上取消了
ＨＦ和ＫＯＨ。本發明的一些成分在用于清洗ＣＭＰ設備的稀
漿配給系統時具有優勢。
