納米二氧化硅拋光粉
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我公司系列二氧化硅拋光是一種高純度顆粒均勻,分散性好,切削力好,鏡面效果好的拋光粉,廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光,
拋光范圍:硅晶圓片、鍺片、化合物半導體材料,光學器件、藍寶石片等的拋光加工。金屬鏡面拋光
拋光特點:具有應用領域廣、拋光效率高、雜質含量低、拋光后容易清洗等特點。如:硅片、化合物晶體、光學器件、寶石玉器等的拋光加工。
技術指標:
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型號 |
外觀 |
粒徑 |
含量 |
應用 |
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VK-SP20F |
白色粉末 |
20-30nm |
99.8% |
精拋 |
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VK-SP50F |
白色粉末 |
50nm |
99.8% |
精拋 |
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VK-SP100F |
白色粉末 |
100nm |
99.8% |
精拋 |
我公司生產的納米二氧化硅拋光粉具有粒徑小、分散性好,粘度低,拋光亮度高,光澤細膩,可以解決材料表面粗糙度、波紋度和表面缺陷等問題。 可以做光學玻璃拋光,玻璃水鉆拋光,寶石拋光,金屬拋光,石材拋光等精拋。也可參雜到拋光膏或拋光蠟里面當拋光蠟主料。
用量
推薦用量為8~20%,調成漿料再進行拋光。
儲藏:常溫密閉儲藏。
包裝:10公斤/袋.
納米二氧化硅拋光粉 ,光學玻璃拋光,玻璃水鉆拋光
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